用hf刻蚀玻璃的化学反应方程式

A．明矾化学式为KAl（SO₄）₂•12H₂O，在溶液中易水解生成Al（OH）₃胶体，具有吸附性，可除去水中的悬浮物，故A正确；
B．玻璃中含有SiO₂，氢氟酸刻蚀工艺玻璃反应的化学方程式为：SiO₂+4HF=SiF₄↑+2H₂O，所以可以用HF（氢氟酸）来刻蚀工艺玻璃上的纹饰，故B正确；
C．萃取剂与水不能互溶，应分层，碘易溶于水四氯化碳，且四氯化碳不溶于水，可用萃取分液法分离，而酒精与碘水中的水互溶，不分层，不可用无水乙醇代替CCl₄，故C错误；
D．锌的活泼性比铁强，锌和铁在电解质溶液中形成原电池反应，锌做负极被腐蚀，海轮船体铁做正极被保护，故D正确；
故选C．

点评：
本题考点： 硅和二氧化硅；金属的电化学腐蚀与防护；分液和萃取．

考点点评： 本题主要考查了元素化合物知识，掌握胶体的净水原理、玻璃刻蚀原理、萃取剂的选择、金属的电化学防护是解答本题的关键，题目难度不大．

A．水晶的主要成分是二氧化硅，含有硅元素，但不是硅酸盐，餐桌上的瓷盘是硅酸盐制品，故A错误；
B．氢氟酸能与二氧化硅反应生成四氟化硅气体，故B错误；
C．二氧化硅广泛用于光纤通讯，故C正确；
D．粗硅制备单晶硅先利用氧化反应即用Cl₂氧化粗硅为SiCl₄，再利用还原反应即用H₂还原SiCl₄，故D错误．
故选C．

点评：
本题考点： 陶瓷的主要化学成分、生产原料及其用途；含硅矿物及材料的应用．

考点点评： 本题考查二氧化硅的性质和用途，题目难度不大，注意氢氟酸能与二氧化硅反应生成四氟化硅气体，可用来雕刻玻璃．

A、光导纤维的制备材料是二氧化硅，二氧化硅广泛用于光纤通讯，故A正确；
B、石英主要成分是二氧化硅是酸性氧化物和盐酸不反应，刻蚀石英制作艺术品应用氢氟酸，故B错误；
C、水晶项链主要成分为二氧化硅，不是硅酸盐，故C错误；
D、粗硅精炼是二氧化硅和碳反应生成硅和一氧化碳，精炼过程中粗硅和氯气反应生成四氯化硅，被氢气还原得到晶体硅，发生的反应中元素化合价发生变化，是氧化还原反应，故D错误；
故选A．

点评：
本题考点： 硅和二氧化硅．

考点点评： 本题考查了二氧化硅性质的分析应用，掌握基础是关键，注意知识积累，题目较简单．

A．NF₃在潮湿的空气中泄漏时，发生3NF₃+5H₂O=2NO+HNO₃+9HF，出现白雾，则容易被发现，故A正确；
B．只有N元素的化合价变化，则NF₃是氧化剂和还原剂，故B错误；
C．HNO₃为氧化产物，NO为还原产物，氧化产物与还原产物的物质的量之比为1：2，故C错误；
D．由反应可知，转移2mol电子生成2molNO，则若转移0.2mol电子时，生成NO为0.2mol，但温度、压强未知，不能计算体积，故D错误；
故选A．

点评：
本题考点： 氧化还原反应．

考点点评： 本题考查氧化还原反应，为高考常见题型，把握反应中元素的化合价变化为解答的关键，侧重氧化还原反应中基本概念的考查，选项D为解答的易错点，题目难度不大．

A．Na和K元素的焰色反应现象不同，可将二者鉴别，故A错误；
B．氢氟酸能与二氧化硅反应生成四氟化硅气体，不是酸性氧化物的性质，故B正确；
C．浓硫酸有脱水性可使蔗糖变黑，故C错误；
D．硅胶易吸水，能防止食品变质，故D错误．
故选B．

点评：
本题考点： 硅和二氧化硅；浓硫酸的性质；焰色反应．

考点点评： 本题考查焰色反应、酸性氧化物、脱水性和干燥剂，题目难度不大，注意酸性氧化物不能与酸反应，氢氟酸能与二氧化硅反应，不是酸性氧化物的性质．

A．利用盖斯定律将①-②可得HF（aq）⇌F-（aq）+H+（aq）△H=-10.4 kJ•mol-1，故A错误；B．当V=20时，恰好反应生成NaF，溶液呈碱性，根据质子守恒可得c（OH-）=c（HF）+c（H+），故B正确；C．当V=20时，恰好反...

点评：
本题考点： 酸碱混合时的定性判断及有关ph的计算；离子浓度大小的比较．

考点点评： 本题考查酸碱混合的计算和判断，题目难度中等，注意盖斯定律的运用，易错点为D，注意V对溶液酸碱性的影响．

A．只有N元素的化合价发生变化，NF₃既是氧化剂又是还原剂，故A错误；
B．NF₃生成NO，被还原，NF₃生成HNO₃，被氧化，还原剂与氧化剂的物质的量之比为1：2，故B错误；
C．生成0.2molHNO₃，转移的电子的物质的量为0.2mol×（5-3）=0.4mol，故C错误；
D．生成的NO易与空气中氧气反应生成红棕色气体二氧化氮，故D正确．
故选D．

点评：
本题考点： 氧化还原反应．

考点点评： 本题考查氧化还原反应，题目难度中等，注意化合价的升降为氧化还原反应的特征，注意从化合价的角度分析．

A．硅是半导体做太阳能电池，制备光导纤维的主要成分是二氧化硅，故A错误；
B．工艺师利用氢氟酸刻蚀石英制作艺术品，反应为SiO₂+4HF═SiF₄↑+2H₂O，故B错误；
C．硅酸盐指的是硅、氧与其它化学元素结合而成的化合物的总称，陶瓷、玻璃、水泥等都是硅酸盐产品，故C正确；
D．玛瑙的主要成分是二氧化硅，不属于硅酸盐，故D错误；
故选C．

点评：
本题考点： 硅和二氧化硅；含硅矿物及材料的应用．

考点点评： 本题考查了硅二氧化硅等无机非金属材料的成分和用途，掌握各种材料的组成是解题的关键，注意相关基础知识的积累及化学与生活的联系，题目较为简单．

A、二氧化硅与烧碱反应，但反应缓慢，生产的硅酸钠和二氧化硅难以分离，不能用于在玻璃上进行刻蚀，故A错误；
B、纯碱与二氧化硅在高温下反应，不能用于在玻璃上进行刻蚀，故B错误；
C、氢氟酸与二氧化硅易反应，生产四氟化硅气体，能在玻璃上进行刻蚀，故C正确；
D、盐酸和二氧化硅不反应，不能用于在玻璃上进行刻蚀，故D错误．
故选C．

点评：
本题考点： 硅和二氧化硅．

考点点评： 本题考查二氧化硅的性质，题目难度不大，注意基础知识的积累．

A．在反应NF₃+H₂O→NO+HNO₃+HF中，只有N元素的化合价变化，NF₃既是氧化剂又是还原剂，H₂O既不是氧化剂也不是还原剂，故A错误；
B．NF₃在干燥空气中不反应，无明显现象，B故B错误；
C．若生成1mol HNO₃，转移电子为1mol×（5-3）=2mol电子，即转移2N_A个电子，故C正确；
D.2.24 L气体未注明条件，不一定为标准状况，不能计算，故D错误；
故选C．

点评：
本题考点： 氧化还原反应．

考点点评： 本题考查氧化还原反应，为高频考点，把握反应中元素的化合价变化为解答的关键，注意从元素化合价角度分析，侧重氧化还原反应基本概念及转移电子数的考查，题目难度不大．

A、电离吸热，升温促进电离，HF的电离程度增大，故A错误；
B、H⁺（aq）+OH^-（aq）⇌H₂O（l）△H=-57.3kJ/mol，所以其逆反应H₂O（1）⇌H⁺（aq）+OH^-（aq）△H=+57.3kJ/mol，故B正确；
C、c＞0.1时，溶液为NaF和HF的混合溶液，当F^-的水解程度与HF的电离程度相同时，溶液呈中性，c（Na⁺）=c（F^-），故C错误；
D、若c≥0.1时，c（F^-）＞c（OH^-），所以当c（Na⁺）＞c（OH^-）＞c（F^-）＞c（H⁺），则c一定小于0.1，故D正确；
故选AC．

点评：
本题考点： 弱电解质在水溶液中的电离平衡．

考点点评： 本题考查了弱电解质的电离、焓变、溶液中离子浓度大小比较，题目难度中等．

氢氟酸可用于在玻璃上雕刻各种精美图案，雕刻过程中发生的反应为：4HF+SiO₂═SiF₄↑+2H₂O．
故选：D．

点评：
本题考点： 硅和二氧化硅．

考点点评： 本题考查二氧化硅的性质，难度不大，平时注意基础知识的积累．

A．光导纤维的成分是二氧化硅，不是硅单质，故A正确；
B．二氧化硅能与氢氟酸反应生成四氟化硅气体，可用于雕刻石英，故B正确；
C．铝与弱碱不反应，可以与强碱反应，故C错误；
D．海水提溴过程中，将溴吹入吸收塔，使溴蒸气和吸收剂SO₂发生作用以达到富集的目的，化学反应为Br₂+SO₂+2H₂O═2HBr+H₂SO₄，故D正确．
故选C．

点评：
本题考点： 硅和二氧化硅；海水资源及其综合利用；铝的化学性质．

考点点评： 本题考查二氧化硅、铝的性质和用途和物理变化等，题目难度不大，学习中注意积累．

A．粗硅制备单晶硅的反应是，Si+2Cl₂

△
.
SiCl₄，SiCl₄+2H₂

△
.
Si+4HCl，过程中涉及氧化还原反应，故A错误；
B．石英的主要成分是二氧化硅，二氧化硅能和氢氟酸反应而和盐酸不反应，所以工艺师利用HF刻蚀石英制作艺术品，故B错误；
C．水晶的主要成分是二氧化硅，不属于硅酸盐产品，故C错误；
D．硅位于金属和非金属分界线附近，具有金属性和非金属性，是重要的半导体材料，能制造硅太阳能电池，所以硅是目前人类将太阳能转变为电能的重要材料，故D正确；
故选D．

点评：
本题考点： 硅和二氧化硅．

考点点评： 本题考查了硅、二氧化硅的性质，知道粗硅的制备原理、二氧化硅及硅的用途，为常考查点，但一般题目都较容易．

（1）常温下，二氧化硅与氢氟酸反应生成四氟化硅和水，反应的化学方程式为：SiO₂+4HF=SiF₄↑+2H₂O，
故答案为：SiO₂+4HF=SiF₄↑+2H₂O；
（2）氢氧化亚铁和氧气是反应生成氢氧化铁，反应的化学方程式为：4Fe（OH）₂+O₂+2H₂O=4Fe（OH）₃，
故答案为：4Fe（OH）₂+O₂+2H₂O=4Fe（OH）₃；
（3）氢氧化铝溶解在氢氧化钠溶液中生成偏铝酸钠和水，反应的离子方程式为：Al³⁺+4OH^-=AlO₂^-+2H₂O，
故答案为：Al³⁺+4OH^-=AlO₂^-+2H₂O；
（4）向硅酸钠溶液中通入过量的CO₂，生成硅酸沉淀和碳酸氢钠，反应的离子方程式为：SiO₃^2-+2CO₂+2H₂O=H₂SiO₃↓+2HCO₃^-，
故答案为：SiO₃^2-+2CO₂+2H₂O=H₂SiO₃↓+2HCO₃^-；
（5）将铜片放入在FeCl₃溶液中，生成氯化亚铁和氯化铜，反应的离子方程式为：2Fe³⁺+Cu=2Fe²⁺+Cu²⁺，故答案为：2Fe³⁺+Cu=2Fe²⁺+Cu²⁺．

点评：
本题考点： 离子方程式的书写．

考点点评： 本题考查了化学方程式、离子方程式的书写，题目难度中等，试题侧重基础知识的考查，注意掌握化学方程式、离子方程式书写的方法及注意问题．

A．只有N元素的化合价发生变化，NF₃既是氧化剂又是还原剂，故A错误；
B．NF₃生成NO，被还原，NF₃生成HNO₃，被氧化，还原剂与氧化剂的物质的量之比为1：2，故B错误；
C．生成0.2molHNO₃，转移的电子的物质的量为0.2mol×（5-3）=0.4mol，故C错误；
D．生成的NO易与空气中氧气反应生成红棕色气体二氧化氮，故D正确．
故选D．

点评：
本题考点： 氧化还原反应．

考点点评： 本题考查氧化还原反应，题目难度中等，注意化合价的升降为氧化还原反应的特征，注意从化合价的角度分析．

A．光导纤维的主要成份是二氧化硅，硅常用于半导体材料，故A错误；
B．氢氟酸能与二氧化硅反应，而玻璃中含有二氧化硅，则可用于雕刻玻璃，故B正确；
C．制普通玻璃的主要原料用纯碱、石灰石、石英，不是烧碱，故C错误；
D．NaOH与玻璃中二氧化硅反应生成硅酸钠而导致玻璃塞打不开，应用橡胶塞，故D错误．
故选B．

点评：
本题考点： 硅和二氧化硅；含硅矿物及材料的应用．

考点点评： 本题考查硅以及硅的化合物，题目难度不大，注意相关基础知识的积累．

A．盐酸和二氧化硅不反应，不能用于在玻璃上进行刻蚀，故A错误；
B．氢氟酸与二氧化硅易反应，生产四氟化硅气体，反应的化学方程式为：4HF+SiO₂=SiF₄↑+2H₂O，能在玻璃上进行刻蚀，故B正确；
C．二氧化硅与烧碱反应，但反应缓慢，生产的硅酸钠和二氧化硅难以分离，不能用于在玻璃上进行刻蚀，故C错误；
D．纯碱与二氧化硅在高温下反应，不能用于在玻璃上进行刻蚀，故D错误；
故选B．

点评：
本题考点： 硅和二氧化硅．

考点点评： 本题考查二氧化硅的性质，题目难度不大，注意基础知识的积累，注意掌握常见化学反应的反应原理．