磁控溅射氩气对电流影响氩气量是如何影响电流的,请从微观方面介绍一下!

qingyu172022-10-04 11:39:541条回答

已提交，审核后显示！提交回复

wildlily 共回答了22个问题 | 采纳率77.3%: 粗略的理
氩气量越多,真空度越低,真空室内的等离子体密度就越大,当然电子也就越多,所以电流也就越大.; 1年前

给出真空镀膜机的炉径和高度,给出所镀产品的尺寸,产能怎么算?（电阻蒸发,电子枪蒸发,磁控溅射） asdf16911年前1: 被消费者共回答了19个问题 | 采纳率89.5%

如：产品的宽一圈可以挂6个,产品的高可以挂14个,一炉有8个挂杆,20分钟一炉,一个小时就3炉,那就是6*14*8*3=1小时是2016PCS了.

1年前查看全部

运用磁控溅射方法,在金丝(Au)上溅射一层金属锌膜,需要什么样的溅射条件啊? 运用磁控溅射方法,在金丝(Au)上溅射一层金属锌膜,需要什么样的溅射条件啊? 溅射条件,比如压强、真空度、功率,时间等等等等. fishyu83211年前1: 星期五13号共回答了21个问题 | 采纳率90.5%

不同的设备参数不一样,一般情况下,本底真空10的-3次方以下,通入氩气,调节流量,保持磁控溅射的溅射气压为0.5Pa左右,至于功率和时间的问题,那就要看你用的是什么电源和靶材有多大了,一般直径为100mm的小圆形靶,如果用的是直流电源,电流调节1.5安培就行了,电压一般会在400-600V之间,如果用的是射频电源的话,功率500W以内.时间的问题那要看你要镀多厚了,而且膜厚还与试样与靶材的距离有关.一般情况下镀个半小时就有1个微米以上.具体时间把握你还要做些检测.

1年前查看全部

磁控溅射靶材是铟、起辉气体是氩气（高纯）,反应气体是氧（高纯）,在基片上需要生成三氧化二铟 磁控溅射靶材是铟、起辉气体是氩气（高纯）,反应气体是氧（高纯）,在基片上需要生成三氧化二铟 工作环境为2.8*10-3mbar真空度,1.5厘米间距阻值要200欧姆左右.影响最终在基片上生成为三氧化二铟的因素有哪些方面. hueiyanshizhu1年前1: 向往美好生活共回答了14个问题 | 采纳率85.7%

氧流量,控制靶中毒.
沉积膜时的时间,
基材的清洁问题,

1年前查看全部

磁控溅射的问题,靶电流加不上去有5个靶其中3个靶加不高电流,同样的进气量下剩余的两个靶可以加的很高真空度在0.5左右.这 磁控溅射的问题,靶电流加不上去 有5个靶其中3个靶加不高电流,同样的进气量下剩余的两个靶可以加的很高 真空度在0.5左右. 这3个靶在到一定电流以后靶会出现一闪一闪的现象. 电源有蜂鸣声,电流显示和电压显示很混乱,在调回来就好了 或者加大进气量也可以,靶的冷却水温度也没问题. 中毒问题也不大 ,在低电流下练了很长时间的靶了10A（500V-700V）的电流练的靶.把电流在加高就会出现这种现象,剩余的两个靶在同样的真空度和电流下是没有问题的!电源的问题也测试过了,我把有问题的靶线跟没问题的靶给调了下,结果还是一样. wuzhizong1年前1: wpc0518 共回答了20个问题 | 采纳率85%

靶材一闪一闪应该是打火现象.
电流加不上去,有很多情况.建议你提高气压,适当降低衬底温度和负偏压试试,应该能得到改善.如果电源、靶材等都没问题,有可能是磁场退化了或高温下磁场减弱了.
你们的电流10A很高啦!一般都是几毫安每平方厘米.

1年前查看全部